Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/14862
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorТкаченко, О. В.uk
dc.contributor.authorНовік, Н. О.uk
dc.date.accessioned2020-01-21T22:55:33Z-
dc.date.available2020-01-21T22:55:33Z-
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationТкаченко О. В. Сумісний розряд іонів міді та цинку [Електронний ресурс] / О. В. Ткаченко, Н. О. Новік // Технології та дизайн. - 2019. - № 4 (33). - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/td_2019_4_15.uk
dc.identifier.issn2304-2605
dc.identifier.urihttp://nbuv.gov.ua/UJRN/td_2019_4_15
dc.identifier.urihttps://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/14862-
dc.description.abstractЗроблено аналіз проблем, що не дають можливості одночасної деполяризації іонів міді та цинку і здійснено спробу розробки електроліту латунування без шкідливих компонентів. Проаналізовано вольт-амперні характеристики та розроблено на базі їхнього аналізу електроліт латунування. Згідно до адсорбційних вимірювань, що були проведені раніше, рекомендовані домішки, що дозволяють отримати компактні осади латуні. Розроблені теоретичні моделі та проаналізовані результати діаграм стану цинку та міді для рекомендацій по складу електроліту нанесення латуні. Проаналізовані властивості класичного електроліту латунування та запропонований електроліт нанесення шарів латуні.uk
dc.description.abstractСделан анализ проблем, которые не дают возможности одновременной деполяризации ионов меди и цинка и осуществлена попытка разработки электролита латунирования без вредных компонентов. Проведен анализ вольт-амперных характеристик и разработан на базе их анализа электролит латунирования. Согласно адсорбционным измерениям, проведенным ранее, рекомендованные примеси, позволяющие получить компактные осадки латуни. Разработаны теоретические модели и проанализированы результаты диаграмм состояния цинка и меди для рекомендаций по составу электролита нанесения латуни. Проанализированы свойства классического электролита латунирования и предложен электролит нанесения слоев латуни.ru
dc.description.abstractAnalyze the problems, which inhibit the simultaneous depolarization of copper and zinc ions and try to make brass plating electrolyte without harmful components. Volt-ampere characteristics analysis and brass plating electrolyte design. According to adsorptive measurements were recommended additives, which give the opportunity to get small brass residuum. The theoretical models were designed, the diagram results of copper and zink state was analized in order to recommend electrolyte pattern for brass depositing. Classic brass electrolyte characteristics were examined and brass electrolyte of depositing was proposed.en
dc.languageuk
dc.subjectелектролітиuk
dc.subjectгальванічні покриттяuk
dc.subjectлатунуванняuk
dc.subjectтомпакuk
dc.subjectорганічні домішкиuk
dc.subjectтехнологічність процесуuk
dc.subjectэлектролитыru
dc.subjectгальванические покрытияru
dc.subjectлатунированиеru
dc.subjectорганические примесиru
dc.subjectтехнологичность процессаru
dc.subjectelectrolytesen
dc.subjectelectrodeposited coatingen
dc.subjectbrass platingen
dc.subjecttombacen
dc.subjectorganic additivesen
dc.subjectadaptability of the processen
dc.titleСумісний розряд іонів міді та цинкуuk
dc.title.alternativeJoint discharge of copper and zinc ions
dc.title.alternativeСовместный разряд ионов меди и цинка
dc.typeArticle
local.contributor.altauthorТкаченко, А. В.ru
local.contributor.altauthorНовик, Н. О.ru
local.contributor.altauthorTkachenko, O. V.en
local.contributor.altauthorNovik, N. O.en
local.subject.sectionХімічні та біофармацевтичні технологіїuk
local.sourceТехнології та дизайнuk
local.source.number№ 4 (33)uk
local.subject.method0
Розташовується у зібраннях:Електронний науковий журнал «Технології та дизайн»
Наукові публікації (статті)
Кафедра хімічних технологій та ресурсозбереження (ХТР)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
td_2019_N4_15.pdf322,63 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.