Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/8797
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorUshchapovskyi, D. Yu.en
dc.contributor.authorMotronyuk, T. I.en
dc.contributor.authorLinyuicheva, O. V.en
dc.contributor.authorTsymbaliuk, A. S.en
dc.date.accessioned2018-02-07T11:54:44Z-
dc.date.available2018-02-07T11:54:44Z-
dc.date.issued2017
dc.identifier.citationThe intensification of compact copper electrowinning process by increasing vertical current density and distribution uniformity [Text] / D. Yu. Ushchapovskyi, T. I. Motronyuk, O. V. Linyuicheva, A. S. Tsymbaliuk // Promising materials and processesin applied electrochemistry : monograph / ed.: V. Z. Barsukov, Yu. V. Borysenko, O. V. Linyucheva, I. V. Senyk, V. G. Khomenko. - Kyiv : KNUTD, 2017. - pp. 81-88.uk
dc.identifier.urihttps://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/8797-
dc.languageen
dc.titleThe intensification of compact copper electrowinning process by increasing vertical current density and distribution uniformityen
dc.typeArticle
local.sourcePromising materials and processesin applied electrochemistryuk
local.subject.method0
Розташовується у зібраннях:Наукові публікації (статті)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Promising2017_P081-088.pdf372,12 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.